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產(chǎn)品展示

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  • TMC研究級光學(xué)平臺
    TMC研究級光學(xué)平臺
    TMC研究級光學(xué)平臺 TMC的光學(xué)平臺和隔振系統(tǒng)采用全鋼結(jié)構(gòu),具有市場上最高的芯密度和最小的蜂窩單元面積,可提供業(yè)界*先的性能和剛性。 CleanTop性能系列具有三個阻尼性能級別以及適用于各種應(yīng)用的多種配置選項。各個工作臺甚至可以機(jī)械連接,以便在不損失阻尼性能的情況下創(chuàng)建復(fù)雜的剛性工作臺形狀。
    更新時間:2024-11-22
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  • 主動消振系統(tǒng)
    主動消振系統(tǒng)
    Stage-Base 450是專為帶高精度電動X-Y平臺的高級半導(dǎo)體工具而設(shè)計的主動消振系統(tǒng)。這些工具不但需要極其有效的消振性能,它們還要求由平臺引起的有效載荷運(yùn)動能夠非??焖俚胤€(wěn)定,以最大限度地提高工具吞吐量。
    更新時間:2024-11-22
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  • 氣浮綜合性主動隔振系統(tǒng)
    氣浮綜合性主動隔振系統(tǒng)
    氣浮綜合性主動隔振系統(tǒng) LaserTable-Base™是現(xiàn)有光學(xué)平臺隔振技術(shù)的一大飛躍。通常,光學(xué)平臺由低頻氣動隔振系統(tǒng)支撐。雖然在隔離高頻方面非常有效,但這些被動系統(tǒng)實際上放大了關(guān)鍵的1至3 Hz范圍內(nèi)的振動。
    更新時間:2024-11-22
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  • SEM主動隔振平臺
    SEM主動隔振平臺
    SEM主動隔振平臺 SEM-Base-LP采用了我們*特的STACIS壓電技術(shù),具有與我們的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)SEM-Base-VI相同的振動消除性能。SEM-Base-LP包括腳輪,專門設(shè)計用于與許多賽默飛世爾科技(前身為FEI)工具集成。
    更新時間:2024-11-22
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  • SEM主動隔振平臺
    SEM主動隔振平臺
    SEM主動隔振平臺 SEM-Base®VI是下一代STACIS主動壓電消振產(chǎn)品。SEM-Base VI被設(shè)計用于支撐所有商用掃描電子顯微鏡(SEM)以及許多聚焦離子束(FIB)和小型雙光束儀器。SEM-Base VI具有更好的隔振性能、更快、更強(qiáng)大的控制器和高級圖形用戶界面(GUI)。SEM-Base VI使許多實驗室和設(shè)施達(dá)到了滿足工具制造商規(guī)格所需的地面振動水平。
    更新時間:2024-11-22
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  • TMC地面式主動隔振光學(xué)平臺
    TMC地面式主動隔振光學(xué)平臺
    TMC地面式主動隔振光學(xué)平臺,對于傳統(tǒng)的實驗室地面,隔離高大工具的建筑地面振動是一個人體工程學(xué)領(lǐng)域的挑戰(zhàn)。將隔振器直接放置在工具下方可能會將工具抬高到一個不切實際的高度。此外,傳統(tǒng)空氣隔振器放置在一個較高、上重下輕的有效載荷之下時不穩(wěn)定。
    更新時間:2024-11-22
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  • TMC地面式主動隔振平臺
    TMC地面式主動隔振平臺
    TMC地面式主動隔振平臺 采用STACIS - TMC業(yè)界*先的主動壓電消振技術(shù)、“硬安裝”設(shè)計和始于0.6 Hz的隔振與內(nèi)置隔振器的工具兼容。 模塊化、定制和重新定位的靈活性 - 每個平臺都根據(jù)客戶的應(yīng)用量身定做,但與混凝土平臺不同,如果工具或地面特性發(fā)生變化,這些平臺可以很容易地重新進(jìn)行配置。
    更新時間:2024-11-22
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  • TMC主動隔振平臺
    TMC主動隔振平臺
    TMC主動隔振平臺 STACIS IIIc是STACIS III高級主動隔振系統(tǒng)的緊湊型版本。它在減小的高度下提供了同樣出色的隔振性能。 STACIS IIIc非常適合在沒有或地板很低的活動地板上使用,因為標(biāo)準(zhǔn)STACIS III系統(tǒng)的高度會使儀器過高。
    更新時間:2024-11-22
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